EUV-litografia · 13,5 nm

Maailman vaikein asiamodernit puolijohteet

Miten ASML:n koneilla piirretään moderneja piirejä
noin 10 minuuttia
01 · Lähtökohta

Kaksi piiriä, jotka pyörittävät maailmaa CPU = muutama kymmenen nopeaa ydintä. GPU = tuhansia pieniä ytimiä, jotka laskevat yhtä aikaa. Klikkaa kuvien kohtia.

CPU · suoritin

I/O + muistiohjain ydin-siru 1 ydin-siru 2 YDIN

GPU · grafiikka- ja tekoälysuoritin

siru A siru B piialusta · yhteydet sirujen välillä
Klikkaa piirien värillisiä pisteitä ja ketjun painikkeita
02 · Miksi tämä on vaikeaa

Mooren laki ja seinä vuonna 2015 Vedä liukusäädintä tai paina Toista. Ylempi käyrä: transistorien määrä (log-asteikko). Alempi: pienin piirretty viiva.

1971
transistoreja2 300
pienin viiva10 µm
valon aallonpituus436 nm
Vihreä pystyviiva = 193 nm valon raja
03 · Perusteet

Litografia on painamista valolla Sapluuna päästää valon läpi, valo muuttaa valoherkkää kalvoa ja kuvio jää kalvoon. Klikkaa vaiheet 1–4.

valon aallonpituus13,5 nm
sapluunan kuvio4 × suurempi
kalvon paksuus~50 nm

Kreikaksi lithos = kivi ja graphein = piirtää — "kiven piirto"
04 · Fysiikka

Aallonpituus ratkaisee, kuinka pientä voi piirtää Vaihda valon väri, viivojen väli ja linssin koko (NA). Katso, mitä kiekolle syntyy.

670 nm
0,75
piirrettävä viiva129 nm
linssiin ehtii0, ±1
Pienin viiva ≈ 0,5 · λ / NA (vinolla valaistuksella 0,25 · λ / NA) — tästä syystä aallonpituutta on pienennettävä
05 · Valonlähde

Näin tehdään keinotekoinen aurinko — 50 000 kertaa sekunnissa Tinapisara, kolme laservälähdystä ja plasma, joka on kuumempi kuin Auringon pinta.

Klikkaa kangasta: kohdista seuraava pulssi pisaraan.

3 pulssia · esipulssi litistää, toinen harventaa sen sumuksi

50 000
plasman lämpötila0 K
aallonpituus13,5 nm
EUV-teho0 W
06 · Kone sisältä

Reitti: pisarasta kiekolle Klikkaa vaihetta. Jokainen peili maksaa valoa — perille tulee lopulta alle kymmenesosa.

valoa lähteestä100 %
piirrettävä viiva13 nm
kiekkoja / tunti125

Klikkaa vaiheita ja vaihda NA — luvut päivittyvät
07 · Tarkkuus

Nanometrin tarkkuus, 20 G:n kiihtyvyys, puhdastila Kolme mittaria, joiden pitää pysyä kasassa yhtä aikaa.

kerrosten kohdistus

0

Sallittu virhe: 1 nm = 5 piiatomia.

kiihtyvyys

kiihdytys0 G
vauhti125 kiekkoa/h

puhdastila

Vedä virhe-liukusäädintä — yli 5 atomin kohdalla kerrokset eivät enää osu kohdakkain
08 · Yhteenveto

Yksi kone, yksi yritys — ja koko tekoälyteollisuuden kivijalka Koneen sisällä valo kulkee tyhjiössä peililtä peilille. Oikealla kuusi asiaa, jotka piti kehittää ensin.

EUV-litografiakoneen poikkileikkaus: valonsäteet kulkevat peililtä peilille, robotit vaihtavat kiekkoja ja kaapelit täyttävät seinämät.
Lisää kuva tähän Tallenna koneen kuva tiedostoon img/asml-kone.jpg (myös .jpeg, .png ja .webp kelpaavat) — kalvo näyttää sen automaattisesti uudelleenlatauksen jälkeen.

Valo kulkee tyhjiössä peililtä peilille: plasma ja tinasuutin ovat vasemmalla, kiekko ja kuvantavat peilit koneen keskellä.

Mitä piti kehittää

  • Valonlähde — 13,5 nm valoa ei ole olemassa; se tehdään tinasulasta 50 000 laserpulssilla sekunnissa.
  • Peilioptiikka — mikään linssi ei läpäise EUV:tä; ~50 kerroksen Mo/Si-peili, pinnan karheus 2,3 atomia.
  • Tyhjiö — ilma absorboi 13,5 nm valon millimetrissä, joten koko valopolku on tyhjiössä.
  • Tarkkuus — kerrokset osuvat kohdakkain nanometrin tarkkuudella 20 G:n kiihtyvyydessä.
  • Puhtaus — enintään 10 hiukkasta kuutiometrissä; yksikin pölyhiukkanen pilaa kiekon.
  • Toimitusketju — 100 000 osaa ja 5 000 alihankkijaa: Zeiss tekee peilit, Trumpf laserin.
transistoreja / GPU208 mrd
kerroksia / kiekko10–100
valoa perillä< 10 %
koneen hinta> 350 M€
valmistajia maailmassa1
Kaikki kuusi olivat pakollisia — yksikin puuttuva osa-alue olisi pysäyttänyt koko koneen
Ladataan dioja…